Nakon što su SAD primorale holandsku vladu da ne isporučuje svoje najnaprednije mašine za proizvodnju čipova Kini, čini se da je Huawei na putu da riješi problem.
Kompaniji Huawei je odobren patent koji će joj pomoći da napravi sopstvenu EUV litografsku mašinu za proizvodnju naprednih čipova na proizvodnom procesu manjem od 10 nm. Novi patent rješava problem interferencije ultraljubičastog svjetla koji bi inače učinilo vafer neravnim.
Patent se odnosi na problem u posljednjem koraku proizvodnje čipova koji je uzrokovan malim talasnim dužinama ekstremnog ultraljubičastog (EUV) svjetla i opisuje niz ogledala koja dijele snop svjetlosti na više zraka koji se sudaraju sa sopstvenim mikroskopskim ogledalima. Svako od tih ogledala se rotira drugačije da bi stvorilo različite interferencije u svjetlosti, tako da kada se ponove spoje, interferencije se međusobno poništavaju i stvaraju jedan ujednačen snop.
EUV litografske sisteme trenutno isključivo proizvodi holandska kompanija ASML, koja za sebe tvrdi da je "najvažnija tehnološka kompanija za koju niko nije čuo". EUV litografija se oslanja na iste principe kao i stariji oblici ove tehnologije, ali koristi svjetlost talasne dužine od oko 13,5 nm, što je veoma blizu talasnoj dužini x-zraka. ASML generiše ovo svjetlo pomoću rastopljenih kapljica kalaja, prečnika oko 25 mikrona.
"Dok padaju", objašnjava ASML, "kapljice su prvo pogođene laserskim impulsom niskog intenziteta koji ih spljošti u oblik palačinke. Zatim snažniji laserski impuls isparava spljoštenu kapljicu da bi stvorio plazmu koja emituje EUV svjetlost. Kako bi se proizvelo dovoljno svjetlosti za proizvodnju mikročipova, ovaj proces se ponavlja 50.000 puta u sekundi".
Kompaniji ASML je bilo potrebno 6 milijardi evra i 17 godina istraživanja za razvoj EUV litografskih mašina spremnih za prodaju, ali prije nego što su svoj rad privršili kraju, SAD su primorale holandsku vladu da zabrani izvoz u Kinu, ograničavajući ovu zemlju na stariju DUV tehnologiju. Za sada, samo pet kompanija koristi ili je najavilo planove za korišćenje EUV litografskih sistema kompanije ASML - Intel i Micron u SAD, Samsung i SK Hynix u Južnoj Koreji i TSMC u Tajvanu, piše smratlife.rs.
O čemu je zaista riječ?
Kineske kompanije, kao što je Huawei, su prethodno mogle da šalju sopstveni dizajn u fabrike koje koriste EUV sisteme kako bi proizveli prilagođenje čipove, ali američke sankcije su učinile ovaj proces sve manje mogućim. Kompaniji Huawei su potrebne ove litografske mašine kako bi nastavila razvoj sopstvenih čipova, jer su ih američke sankcije primorale da traži specijalnu dozvolu za pribavljanje čipseta kompanije Qualcomm pod uslovima da neće koristiti 5G.
Ipak, nije samo Kina ta koja trpi zbog američkih sankcija. Kako prenosi Reuters, izvršni direktor kompanije ASML je u nedavnom intervjuu doveo u pitanje pokušaj SAD da navede Holandiju da usvoji nova pravila koja ograničavaju izvoz u Kinu i da li on ima smisla.
"Američki proizvođači čipova nemaju problem sa Kinom kao kupcem", rekao je prvi čovjek kompanije. "Opšte je poznato da je tehnologija čipova za čisto vojne svrhe obično stara 10, 15 godina. Ipak, tehnologija koja se koristi za pravljenje takvih čipova još uvijek se može prodati Kini".
